China inicia la fabricación en serie de sus propias máquinas de litografía UVP

China ha marcado un hito en la industria de los semiconductores al iniciar la fabricación en serie de sus propias máquinas de litografía de ultravioleta profundo (UVP) de inmersión. Según informes recientes, una compañía con sede en Shanghái, vinculada al ecosistema tecnológico local, ha comenzado a producir estas herramientas esenciales para el grabado de circuitos sobre obleas de silicio, un proceso que hasta ahora dependía casi exclusivamente de proveedores internacionales.

Máquina de litografía UVP de ASML

Impacto en el sector tecnológico y de hardware

El objetivo de producción para este año es de cinco unidades, destinadas a fabricantes clave como SMIC y Hua Hong Semiconductor, con planes de escalar hasta las veinte unidades en 2027. Este avance ha generado una reacción inmediata en los mercados financieros, provocando caídas en las acciones de líderes del sector como ASML, Applied Materials y Lam Research. La capacidad de China para desarrollar su propia infraestructura de fabricación es vista como una alteración directa en el dominio de las empresas neerlandesas y estadounidenses que controlan actualmente la cadena de suministro global.

Desafíos técnicos y competencia

A pesar de este avance, la industria china reconoce que aún se encuentra una generación por detrás de los estándares actuales. Las máquinas desarrolladas están optimizadas principalmente para procesos de 28 nm, aunque mediante técnicas de multipatterning podrían alcanzar nodos más avanzados. Los componentes internos integran tecnología local, pero todavía dependen de piezas críticas de origen japonés. Además, la escala de producción sigue siendo reducida: mientras China aspira a fabricar veinte máquinas en 2027, ASML mantiene un ritmo de entrega de aproximadamente 130 equipos anuales.

Componentes y tecnología industrial

El contexto internacional añade presión, con nuevas restricciones de exportación evaluadas por Estados Unidos. Mientras tanto, el Gobierno chino continúa trabajando en paralelo en proyectos de litografía de ultravioleta extremo (UVE), manteniendo su estrategia de independencia tecnológica frente a las barreras comerciales vigentes.

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