China elude 2.000 patentes de ASML: el nuevo método láser para sus chips

La industria de los semiconductores enfrenta un cambio de paradigma ante los avances de China en litografía ultravioleta extremo (UVE). Un equipo del Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de Shanghái ha desarrollado una plataforma de fuente de luz láser-plasma que permite sortear más de 2.000 patentes vinculadas a la compañía neerlandesa ASML, la cual mantiene restricciones de venta hacia el país asiático desde 2019. Máquina de litografía de ASML

Ingeniería frente a restricciones

El proyecto, liderado por el científico Lin Nan, emplea un método técnico distinto al estándar de la industria. Mientras ASML utiliza láseres de dióxido de carbono para impactar gotas de estaño, el equipo chino emplea un láser de estado sólido de 1 micra sobre un blanco de estaño sólido. Este enfoque busca mayor eficiencia y un diseño más compacto, alejándose de los métodos tradicionales protegidos por propiedad intelectual. Aunque el logro representa un avance significativo en la capacidad de investigación china, la tecnología aún enfrenta desafíos considerables para su implementación masiva. La industria global de semiconductores mantiene sus cadenas de suministro y procesos de ingeniería optimizados exclusivamente para el modelo de ASML, lo que complica la adopción inmediata de este nuevo sistema en la producción a escala comercial.

El camino hacia la independencia tecnológica

Este desarrollo no es un esfuerzo aislado. China mantiene iniciativas paralelas coordinadas por empresas como Huawei, que involucran a múltiples institutos tecnológicos para lograr la integración completa de una máquina UVE propia. Aunque se han reportado prototipos operativos en laboratorios de alta seguridad, el país todavía no ha conseguido fabricar circuitos integrados comerciales funcionales con este tipo de litografía. La carrera por la soberanía tecnológica sigue marcada por fechas estimadas, con metas gubernamentales fijadas para 2028 y previsiones externas que apuntan hacia 2030. Mientras tanto, la tensión persiste en el mercado global, especialmente ante las investigaciones sobre posibles canales clandestinos de acceso a maquinaria extranjera, hechos que ASML ha negado categóricamente al confirmar la ubicación de todas sus unidades operativas a nivel mundial.

forum Comentarios

forum

No hay comentarios aún. ¡Sé el primero en opinar!

© Copyright 2026 GNews Todos los derechos reservados . Editado por Aby